RTPアニーリングファーネスは、1200度まで加熱する赤外線ハロゲンチューブを備えた12インチの基板の処理に使用できます。

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Zhengzhou Tainuo Film Materials Co., Ltd.7 yrs

ホバーでズームイン

キー属性

中核事業の明細

保証

1年

その他の属性

原産地

Henan, China

分類

研究所加熱機器

カスタマイズされたサポート

Oem, Odm

銘柄

モデル番号

TN-RTP1000-Diam300-T

サイズ

890*950*1400mm

材料

重さ

200 KG

電圧

380 V

商品名

RTPアニーリング炉

キーワード

半導体、アニーリング

アプリケーション

急速な熱処理

基板サイズ

12インチ

基板ベース

石英針 (SiCコーティングされたグラファイトベースはオプション)

温度範囲

150-1200 ℃

暖房料金

カスタマイズ可能

チャンバー素材

セラミック繊维の部屋

温度再現性

± 3 ℃

真空度

5.0E-3 Torr / 5.0E-6 Torr

包装と配送

販売単位：

単一品目

単一のパッケージサイズ：

89X95X140 cm

単一の総重量：

150.000 kg

数量 (セット)	1 - 2	> 2
推定時間（日）	60	交渉による

サプライヤーからの製品説明

1 - 1 セット

$27,500.00

>= 2 セット

$26,500.00

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