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真空コーティング用レーザーレンズに使用される酸化ハフニウム/二酸化ハフニウムHfO2顆粒/タブレット

(1 review)
Taizhou ATS Optical Material Co., Ltd.カスタムメーカー14 yrsCN

キー属性

中核事業の明細

CAS番号
12055-23-1
純度
99.99%

その他の属性

分類
ハフニウム酸化
原産地
Jiangsu, China
その他の名前
ハフニウム二酸化
MF
HfO2
EINECS番号
235-013-2
等級の標準
電子グレード, 産業等級
出現
黒顆粒/タブレット
適用
真空コーティング
銘柄
ATS
モデル番号
sinter granule/tablet
製品名
ハフニウム酸化HfO2顆粒/タブレット真空コーティングのための
形状
顆粒/タブレット
純度
99.99%
Cas番号
12055-23-1
密度
9.68グラム/cm3
融点 (°C)
2810
550nmで屈折率
1.95
透明範囲 (μ m)
0.23-7
蒸発ソース
E

包装と配送

梱包の詳細
真空コーティング用レーザーレンズに使用される酸化ハフニウム/二酸化ハフォ2顆粒/タブレット用1kg/バッグ
ポート
shanghai port

供給能力

供給能力
1000 キログラム per Month

リードタイム

数量 (キログラム)1 - 5 > 5
推定時間(日)10交渉による

カスタマイズ

カスタマイズされたロゴ
最低 注文: 1
グラフィックのカスタマイズ
最低 注文: 1
カスタマイズされたパッケージ
最低 注文: 1

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