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Update:2026-03-06

インジウムスパッタリングターゲット内

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セントピュアブランド99.99% ITOターゲットNb2O5/Nbox/伊藤/IGZO/Sno2/ZNO/NiO/Tiox/IGZO/MgO ITOスパッタリングターゲット - Product Image 1

セントピュアブランド99.99% ITOターゲットNb2O5/Nbox/伊藤/IGZO/Sno2/ZNO/NiO/Tiox/IGZO/MgO ITOスパッタリングターゲット

$500
MOQ: 1
99.99% 純粋なインジウムディスクターゲットラウンドインジウムスパッタリングターゲット薄膜蒸着プロセス - Product Image 1
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99.99% 純粋なインジウムディスクターゲットラウンドインジウムスパッタリングターゲット薄膜蒸着プロセス

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$100-1,200
Full Discount$2,000 以上で 5%OFF
MOQ: 1
TiOxセラミックターゲット99.95% HPスパッタリングターゲットカスタマイズ - Product Image 1
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TiOxセラミックターゲット99.95% HPスパッタリングターゲットカスタマイズ

$850-1,000
MOQ: 1
Si3N4ターゲット窒化シリコンセラミックターゲットPVDコーティング使用インジウムボンド銅バッキングプレート付き - Product Image 1
Si3N4ターゲット窒化シリコンセラミックターゲットPVDコーティング使用インジウムボンド銅バッキングプレート付き - Product Image 2
Si3N4ターゲット窒化シリコンセラミックターゲットPVDコーティング使用インジウムボンド銅バッキングプレート付き - Product Image 3
Si3N4ターゲット窒化シリコンセラミックターゲットPVDコーティング使用インジウムボンド銅バッキングプレート付き - Product Image 4
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Si3N4ターゲット窒化シリコンセラミックターゲットPVDコーティング使用インジウムボンド銅バッキングプレート付き

$55-125
MOQ: 1
SEMサンプルの導電性コーティング用の金ターゲット付きラボデスクトッププラズマスパッタコーティング装置 - Product Image 1
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SEMサンプルの導電性コーティング用の金ターゲット付きラボデスクトッププラズマスパッタコーティング装置

$1,288-5,888
MOQ: 1
ITOインジウムスズ酸化物スパッタリングターゲット2インチ * 0.125インチ厚さインジウムスズ酸化物セラミックターゲット銅バックパネル付き - Product Image 1
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ITOインジウムスズ酸化物スパッタリングターゲット2インチ * 0.125インチ厚さインジウムスズ酸化物セラミックターゲット銅バックパネル付き

$12,000-18,200
MOQ: 1
99.99%純度インジウムキューブ CNC加工 カスタムサイズ（1g～500g） スパッタリングターゲット 半導体研究＆はんだ付け用 - Product Image 1
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99.99%純度インジウムキューブ CNC加工 カスタムサイズ（1g～500g） スパッタリングターゲット 半導体研究＆はんだ付け用

$8-18
MOQ: 100
PVDターゲットITO酸化イリジウム錫ディスクスパッタリングターゲット - Product Image 1
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$80-100
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MOQ: 1

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